CIP在位清洗系統(tǒng)廠家的詳細(xì)資料：

CIP在位清洗系統(tǒng)廠家產(chǎn)品簡(jiǎn)介

是藥品生產(chǎn)中衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)的前提條件之一，它可以消除活性成分交叉污染，消除異物不溶性微粒。降低或消除微生物及熱源對(duì)藥品的污染。CGMP要求盡力推薦制藥工業(yè)使用CIP在線清洗系統(tǒng)。我公司產(chǎn)品具有自動(dòng)化程度高、操作簡(jiǎn)便，清洗*、安全性高、價(jià)格合理等優(yōu)點(diǎn)。

CIP在位清洗系統(tǒng)廠家主要特點(diǎn)

•  CGMP設(shè)計(jì)緊湊、安裝、維護(hù)和調(diào)試簡(jiǎn)便；氣動(dòng)元件及電器元件全部采用進(jìn)口，性能穩(wěn)定可靠；用功能塊組成的模塊結(jié)構(gòu)，可分手控、自控選擇、觸摸屏提示操作，直觀易懂；

•  清除藥物殘留，防止微生物污染，避免批次之間的影響；

•  符合CGMP要求，實(shí)現(xiàn)清洗工序的驗(yàn)證；

•  能使生產(chǎn)計(jì)劃合理化及提高生產(chǎn)能力；

•  按程序安排步驟進(jìn)行，與手洗作業(yè)比較，能有效的防止操作失誤，提高清洗效率，減少勞動(dòng)強(qiáng)度，節(jié)省勞動(dòng)力提高藥品質(zhì)量；

•  使清洗成本降低、水、清洗劑及蒸汽的耗量少；

•  能增加機(jī)器部件的使用年限；

•  安全可靠、設(shè)備無須拆卸。

主要構(gòu)成

主要有單個(gè)或多個(gè)清洗液貯罐及管道、分布器、增壓泵、回流泵、氣動(dòng)控制閥、酸堿計(jì)量泵、板式換熱器、溫度控制儀、電導(dǎo)率檢測(cè)儀、液位控制儀、PLC觸摸屏及控制柜等部件組成。

產(chǎn)品說明

CIP清洗系統(tǒng)是指設(shè)備（罐體、管道、泵、過濾器等）及整個(gè)生產(chǎn)線在無需人工拆卸或打開的前提下，在一個(gè)預(yù)定時(shí)間內(nèi)，將一定溫度的清潔液通過密閉的管道對(duì)設(shè)備內(nèi)表面進(jìn)行噴淋循環(huán)而達(dá)到清洗的目的，特稱CIP在線清洗系統(tǒng)（Cleaning in place）。一個(gè)穩(wěn)定的CIP在線清洗系統(tǒng)在于優(yōu)良的設(shè)計(jì)，包括設(shè)備、管道、操作規(guī)程、清洗劑配方、自動(dòng)控制和監(jiān)控要求的一整套技術(shù)系統(tǒng)等。根據(jù)清洗系統(tǒng)的實(shí)際情況，確定合適的清洗程序，包括清洗條件確定，清洗劑選擇、回收設(shè)計(jì)。并對(duì)清洗過程中關(guān)鍵參數(shù)和條件（如時(shí)間、溫度、流量、電導(dǎo)率）的記錄、打印，做為設(shè)備清洗過程的驗(yàn)證。